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自動進出料立式流化CVD

發布時間: 2026-02-13    瀏覽次數:659

     雙溫區流化床CVD爐,最高硫化溫度1200℃,額定功率為7KW。流化腔為120石英管,流化床氣孔10~16Uμm,實驗時樣品放置于上部可控溫度的硫化腔中,底部反應氣加熱后進入硫化腔,使粉末在爐體加熱區域懸浮硫化,粉末和反應氣體反應沉積生成新的物質。爐管兩端配有不銹鋼法蘭密封總成。FBCVD 立式流化床憑借連續化生產能力、氣流均勻性、高空間利用率及高溫穩定性,在多領域有核心應用。鋰電池領域,可規模化制備硅碳負極(連續進料出料,碳層厚度誤差 ±5%),并對三元、富鋰正極進行氧化物或低溫碳包覆,提升循環穩定性。核燃料領域,用于 TRISO 顆粒多層包覆,確保高溫下 SiC 和 PyC 涂層致密性,保障裂變產物隔離。熱管理材料方面,在氧化鋁顆粒表面生長石墨烯,制備高熱導率熱界面材料。催化領域可均勻負載金屬活性組分,提升反應效率。還用于鈉離子電池材料改性及環保吸附劑功能化,是高性能材料規模化量產的關鍵設備。

  

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設備特點:

1、自動進出料,雙層殼體結構并帶有風冷系統,使得殼體表面溫度小60℃

2、采用真空成型工藝制作的耐火保溫材料,熱損耗小,有效地降低了設備的使用功率;

3、加熱區設計為側方開啟式,以方便與更換流化床

4、觸摸屏操作,直觀顯示溫度、壓力、流量等信息

5、具有全程非線性溫度修正;

6、具有預約燒結功能,節約燒結時間;

7、溫區管式爐可有效設置實驗溫度梯度和偏差,也可設置相同目標溫度從而保證溫場均勻性(根據實際要求請聯系我們) 

     設備型號                       NBD-LTO1200-80/100TP2D2F2YW
     升溫速率

1℃-20℃/Min

額定功率

8KW

傳感器類型

K型熱電偶

Tmax

≤20℃/分鐘

額定溫度

1150℃

爐膛有效空間

 Φ150*(300mm+300mm

主控爐膛材料

高純多晶纖維復合耐火保溫層

爐體外形凈尺寸

1105×高435×深665mm

真空系統

雙級旋片真空泵

系統真空 3~5pa, 電壓,防護等級 IP55;進氣口 KF16 接口,排氣口為KF25 標準接口

控制系統

 

1.NBD-101EP嵌入式操作系統中英文互換圖形界面,7英寸真彩觸屏輸入,

智能式人機對話模式,非線性式樣溫度修正;

2.可預存15條工藝曲線,每條曲線均可設置30段“時間-溫度”節點,省去了重復修改曲線的時間;

3.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能;

預約燒結優化設備利用率、保障燒結工藝穩定性、節省等待時間,實現高效有序的樣品制備
非線性溫度修正通過算法非線性修正控溫點與樣品由于在溫場中位置不同而產生的溫度偏差,提升控制溫度與樣品溫度的一致性、簡化操作,提升實驗數據準確。
數據存儲保障數據安全完整、規范化管理與高效檢索
遠程操控可通過電腦、手機等終端,隨時隨地登錄控制系統查看加熱爐運行狀態(溫度、壓力、升溫速率等),并根據實驗需求遠程調整參數、啟動 / 暫停程序。夜間或節假日無需往返實驗室,即可應對實驗過程中的參數微調需求;跨地域出差時也能實時監控關鍵實驗進程,大幅減少無效通勤時間,讓科研人員更高效地分配工作精力。
可預設多組工藝程序可預設多類實驗專屬溫度程序、保障實驗重復性與操作便捷性,支持工藝優化與數據追溯,適配團隊協作與技術傳承,大幅提升實驗效率與設計靈活性。

溫度精度

+/- 1℃

加熱元件

Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金

密封法蘭結構

不銹鋼密水冷封法蘭

物料收集系統

雙級不銹鋼粉塵分離器(分離效率95%

自動進料系統

自動加料裝置

爐管材質

采用高純度石英材質作為爐管,具有良好的耐高溫、耐腐蝕性能,適合在高真空或特定氣氛中加熱樣品,保持樣品純凈度。

弱腐蝕性氣體預熱器

(可選配)

通體采用316L材料,對于各種氣體以及腐蝕性氣體的預加熱處理,滿足特殊的工藝需求,最高溫度達600℃。

凈重

200KG

設備使用注意事項

1.設備爐膛溫度≥300℃時,禁止打開爐膛,避免受到傷害;

2.爐膛連續使用產生的輕微裂紋屬于正常現象,不影響設備的正常使用;

服務支持

1年質保,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件)。

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自動進出料立式流化 CVD(FB?CVD)核心優勢是連續化、顆粒 / 粉末均勻包覆、高一致性、規模化生產,最適合粉末 / 顆粒材料的批量氣相沉積、包覆與納米材料合成,應用覆蓋新能源、半導體、先進碳材料、催化、航空航天等領域。

一、新能源材料(最核心應用)

  • 鋰電池硅碳負極:多孔碳 / 石墨顆粒流化態下,硅烷熱解沉積納米硅 + 乙炔包覆碳層,解決硅體積膨脹問題,提升容量與循環壽命。

  • 固態電解質 / 正極包覆:LLZO、LATP 等固態電解質粉末致密化;三元 / 磷酸鐵鋰表面包覆 Al?O?、Li?PO?,提升穩定性與循環。

  • 鈉離子電池 / 固態電池:硬碳、普魯士藍類正極表面改性,提升離子電導與界面穩定性。

二、先進碳材料(規模化量產首選)

  • 碳納米管(CNT)批量合成:流化床內催化劑顆粒流化生長多壁 / 單壁碳管,連續出料,適合導電劑、復合材料、散熱材料。

  • 石墨烯 / 碳包覆:粉末表面生長石墨烯或無定形碳,提升導電性、抗氧化、耐腐蝕。

  • 多孔碳 / 活性炭改性:表面沉積金屬 / 氧化物納米顆粒,用于超級電容、吸附、催化。

三、半導體與電子材料

  • 晶圓級粉末 / 微球沉積:SiC、GaN、金剛石微粉表面沉積半導體薄膜,用于功率器件、射頻、MEMS。

  • 高 k 介質 / 金屬電極:HfO?、ZrO?、TiN 等在陶瓷 / 金屬粉末表面沉積,用于 MLCC、柵極、封裝材料。

  • 量子點 / 納米顆粒合成:CdSe、PbS、Si 量子點連續制備,用于顯示、傳感、光伏。

四、催化與環保

  • 催化劑制備 / 改性:流化態下負載 Pt、Pd、Ni、Fe 基催化劑,或對分子篩、氧化鋁粉末進行包覆 / 摻雜,用于 VOCs 治理、加氫、重整、制氫。

  • 環保材料:TiO?、ZrO?光催化劑粉末批量制備;活性炭負載金屬用于脫硫脫硝、水處理。

五、航空航天與高溫材料

  • 陶瓷基復合材料(CMC):SiC、C/C 粉末 / 纖維預制體表面沉積 SiC、BN 界面相,提升高溫強度與抗氧化。

  • 高溫合金 / 金屬粉末包覆:Ti、Ni 基合金粉末表面沉積 Al?O?、Y?O?,用于 3D 打印、熱障涂層、航空發動機部件。

  • 硬質涂層:TiN、TiC、CrN 在刀具 / 模具粉末表面沉積,提升硬度與耐磨性。

六、其他前沿領域

  • 光學 / 光電材料:光纖涂層、太陽能電池 CIGS、透明導電氧化物(ITO、AZO)粉末制備。

  • 生物醫用:醫用鈦粉、羥基磷灰石表面沉積生物相容性涂層,用于植入物、藥物載體。

  • 粉末冶金 / 陶瓷:金屬 / 陶瓷粉末燒結前的均勻包覆與活化,提升致密度與性能。


自動進出料的核心價值

  • 連續化生產:頂部進料、底部出料,實現 24h 不間斷運行,產能提升 10–100 倍。

  • 均勻性:流化態使顆粒受熱與氣相接觸一致,包覆厚度 CV<5%,批次穩定性強。

  • 低損耗:無機械攪拌,顆粒破碎少;氣體利用率高,降低成本。

  • 工藝可控:溫度、氣速、停留時間精準調控,適合納米級、亞微米級沉積。


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